duv和euv技術區別
最佳答案 DUV是深紫外線,EUV是極深紫外線。從製程範圍來看,DUV基本上只能做到25nm,Intel憑藉雙工作臺的模式做到了10nm,但是卻無法達到10nm以下。只有EUV能滿足10nm以下的晶圓製造,並且還可以向5nm、3nm繼續延伸。
DUV是深紫外線(Deep Ultraviolet Lithography),EUV是極深紫外線(Extreme Ultraviolet Lithography)。從製程範圍來看,DUV基本上只能做到25nm,Intel憑藉雙工作臺的模式做到了10nm,但是卻無法達到10nm以下。只有EUV能滿足10nm以下的晶圓製造,並且還可以向5nm、3nm繼續延伸。
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