光刻機是誰發明的

日期:2024-03-31 分類:數碼極客 投稿:caodan

最佳答案 法國人Nicephore niepce。儘管光刻機發明的時間較早,但並沒有在各行業領域之中被使用,直到第2次世界大戰時,該技術應用於印刷電路板,所使用的材料和早期發明時使用的材料也已經有了極大區別,在塑膠板上透過銅線路製作,讓電路板得以普及,短期之內就成為了眾多電子裝置領域中關鍵材料之一。

光刻機是誰發明的

法國人Nicephore niepce。儘管光刻機發明的時間較早,但並沒有在各行業領域之中被使用,直到第2次世界大戰時,該技術應用於印刷電路板,所使用的材料和早期發明時使用的材料也已經有了極大區別,在塑膠板上透過銅線路製作,讓電路板得以普及,短期之內就成為了眾多電子裝置領域中關鍵材料之一。

光刻機:

光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等,是製造晶片的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形透過光線的曝光印製到矽片上。

光刻機一般根據操作的簡便性分為三種,手動、半自動、全自動。

A手動:指的是對準的調節方式,是透過手調旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來完成對準,對準精度可想而知不高了;

B半自動:指的是對準可以透過電動軸根據CCD的進行定位調諧;

C自動:指的是從基板的上載下載,曝光時長和迴圈都是透過程式控制,自動光刻機主要是滿足工廠對於處理量的需要。